纳米展：东芝机械开发专用设备，可采用纳米压印技术提高LED的光提取效率

纳米展：东芝机械开发专用设备，可采用纳米压印技术提高LED的光提取效率

作者：长广 恭明　日期：2010-03-01　来源：日经BP

采用纳米压印技术提高LED的亮度。(点击放大)
采用纳米压印技术形成光学结构。(点击放大)

为了提高白色LED的光提取效率等，需要在芯片内嵌入光学构造。东芝机械目前正在开发专用纳米压印设备。该公司在“nano tech 2010国际纳米科技综合展及技术会议”(2010年2月17～19日，东京有明国际会展中心)上，展示了采用通用纳米压印设备提高白色LED亮度的研发成果。

据东芝机械介绍，目前已确认采用纳米压印技术在LED芯片内嵌入光学构造时，可提高LED的光提取效率及内部量子，从而提高亮度。提高亮度的效果因LED种类不同而异。亮度较低的LED提高了5%左右，亮度较高的LED提高了1%左右。至于为了获得更大的亮度提高效果，应该在LED的哪一层嵌入什么形状的光学构造，目前尚不清楚。该公司表示，在探讨最佳工艺的同时，还在面向白色LED开发专用纳米压印设备。

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